真空磁控濺射工藝制造的Low-E玻璃，一般不可單片使用(可異地加工的Low-E除外)，需要合成中空玻璃或夾層玻璃使用。但它的輻射率E遠低于0.15，可低于0.1以下。在線鍍膜工藝制造的Low-E玻璃，可單片使用。但它的輻射率E=0.28，嚴格來說，已經(jīng)不能稱為Low-E玻璃，(輻射率E小于0.15的物體成為低輻射物體)，而且品質(zhì)和使用性能遠不如離線鍍膜玻璃。Low-E玻璃在中空玻璃里所形成的類似密封空間里最有效，因為這種密封空間消除了Low-E面上的空氣流動，從而使Low-E玻璃更好的發(fā)揮作用。